科研实验专用二硫化钨靶材WS2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

二硫化钨（WS2）为灰色带金属光泽的细小结晶或粉末，属于六方晶系，有半导体性和抗磁性，天然矿物为辉钨矿；层状结构，易解离，有与石墨类似的润滑性质。在自然界出现为辉钨矿，为深灰色斜方系晶状固体。微溶于冷水，溶于热水，密度7.6g/cm³；有还原性。可用作润滑剂，性能比二硫化钼好，摩擦系数较低，抗压强度较大；单独用于高温、高压、高转速、高负荷，以及在化学性活泼介质中运转的设备；与其他物料配置的锻压、冲压润滑剂，能延长模具寿命，提高产品光洁度；与聚四氟乙烯和尼龙等配置的填充材料，可用于制自润滑部件；还可以在石油化工领域中用做催化剂，其优点是裂解性能高，催化活性稳定可靠，使用寿命长。

产品参数

中文名二硫化钨 化学式WS2

分子量247.97 熔点1250℃

密度 7.6g/cm3 纯度 99.9%

支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！

服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！

产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。

加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！

我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。

注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！

建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。